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PVT法长晶炉——电阻炉
LPCVD设备
HVPE 法单晶生长设备 —立式
产品应用Product Applications:
♦ 适用领域:集成电路、先进封装
♦ 适用材料: Si
♦ 晶圆尺寸:12/8 英寸
♦ 适用工艺:氧化(Oxidation)、退火(Annealing)、固化(Polyimide)、 合金(Alloy)、扩散(Diffusion)
技术指标 Technical Parameters:
♦ 制程温度范围:300°C-1250°C
♦批次片数: 100-250片
型号: PVT法长晶炉——电阻炉
型号: PVT法长晶炉——感应炉
型号: HVPE 法单晶生长设备 —立式
山东力冠微电子装备有限公司
91370105597048698M
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