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PVT法长晶炉——电阻炉
HVPE 法单晶生长设备 —立式
LPCVD设备
产品应用/Product Applications:
适用领域:单晶生长
Relevant Industries: Single Crystal Growth
适用材料: Si、AIN
晶圆尺寸: 12/8 英寸
Wafer Size: 12/8 inch
技术指标 /Technical Parameters:
制程温度范围:2400°C
Process Temperature Range: 2400°C
加热方式:感应/电阻
型号: HVPE 法单晶生长设备 —立式
型号: HVPE 法单晶生长设备 —卧式
型号: LPCVD 设备
型号: LPCVD设备
山东力冠微电子装备有限公司
91370105597048698M
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