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减薄机(RG200)
化学机械研磨机(PL-150/200/300)
单片清洗设备(GMC-12SC)
6/8/12寸晶圆环切设备
设备特点:
通过图像算法和先进控制技术来实现晶圆圆周微米级的修整,是先进集成电路制造前道工序、先进封装3D-IC等环节必需的关键制程工艺
高集成性,高传输效率,高单位面积产能
配置高洁净清洗模组,应对更先进工艺制程
6/8/12寸模式切换便捷快速,兼容多种工艺需求
可选配ETMU进行修边前值后值测量
型号: GMC-12BSC
型号: GMC-12RSC
型号: GMC-12SC
型号: RG200
吉姆西半导体科技(无锡)股份有限公司
91320205310580012Q
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