JX300FP是在奥特维捷芯先进CMP设备基础上，根据行业前沿技术需求开发的领先型12英寸CMP设备。该设备配备性能优越的抛光单元，集成更先进的组合清洗技术，展现出更卓越的清洁效果。该设备可实现衬底纳米级全局平坦化，满足先进制程技术需求。

特点：

突破传统模式

集抛光清洗于一体，融合技术优势，以稳健为基石，以突破为锋芒