高级会员
已认证
首页
公司介绍
产品中心
访客留言
联系我们
研磨粉
研磨抛光液
研磨盘
晶圆清洗设备
专用于CMP抛光后晶圆表面的清洗,有效去除残留抛光液及微小颗粒。兼容4至8英寸晶圆,配备自动供液单元,确保清洗过程高效稳定,提升产品洁净度与良率。
型号: CMP抛光机
型号: 精密研磨抛光机-LP062
型号: 自动排巴机
型号: 半自动排巴机
苏州铼铂机电科技有限公司
91320581MA2222JK3R
分类
留言类型
需求简述
联系人
单位名称
电子邮箱
手机号
图形验证码