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ICP-RIE等离子体刻蚀系统
抛光机
300mm晶圆全自动最终抛光机,专为极高的边缘轮廓和均匀去除率设计
特点
畅销款300毫米最终抛光机。
实现原子级超镜面和高亮度表面。
抛光台有3个平台,第1、2、3平台可同时抛光6片品圆
最适合需要大量抛光去除的晶圆和TSV晶圆的解决方案。
规格
型号: ICP-RIE等离子体刻蚀系统
吉永商事株式会社
91310000X07206351A
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